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等離子光催化廢氣處理器新穎的結(jié)構(gòu)設(shè)計將低溫等離子體的發(fā)生裝置和催化氧化裝置有機地結(jié)合在同一凈化設(shè)備內(nèi)，發(fā)揮了復(fù)合凈化的效能，使之滿足占地小，重量輕，能耗少，效率高的設(shè)計要求。

廢氣等離子光催化處理設(shè)備用于工業(yè)惡臭、異味、有毒有害氣體處理。該技術(shù)可廣泛應(yīng)用于石油化工、垃圾焚燒、制藥、食品、污水處理廠、涂料、皮革加工、感光材料、汽車制造等諸多行業(yè)有機廢氣的治理以及采用其它方法很難解決的廢氣的治理。

工業(yè)光氧等離子廢氣凈化放電產(chǎn)生的光氧等離子體中，電子能量高，幾乎可以和所有的有機氣體分子作用，反應(yīng)快，納秒級別，不受氣速限制，能高效去除揮發(fā)性有機物（VOC）、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率高，保證處理后廢氣達標(biāo)排放。

等離子光催化廢氣凈化設(shè)備等離子體中可*地產(chǎn)生大量極活潑的高活性物種，這在普通的熱化學(xué)反應(yīng)中不易得到，這些活性物種（特別是高能電子） 含有巨大的能量，可以引發(fā)位于等離子體附近的催化劑，并可降低反應(yīng)的活化能。同時，催化劑還可選擇性地促進等離子體產(chǎn)生的副產(chǎn)物反應(yīng)，得到無污染的物質(zhì)。

工業(yè)等離子光催化廢氣處理當(dāng)廢氣進入等離子光解一體機凈化設(shè)備內(nèi)時，先經(jīng)過等離子體化學(xué)反應(yīng)過程，即電子首先從電場獲得能量，通過激發(fā)或電離將能量轉(zhuǎn)移到分子或原子中去，獲得能量的分子或原子被激發(fā)，同時有部分分子被電離， 從而成為活性基團；之后這些活性基團與分子或原子、活性基團與活性基團之間相互碰撞后生成穩(wěn)定產(chǎn)物和熱。

等離子光催化廢氣凈化處理光催化過程中能產(chǎn)生高活性氧化物（如光致空穴，羥基自由基等），但目前單一光催化技術(shù)的推廣應(yīng)用還存在一些技術(shù)障礙。在放電等離子體區(qū)域填充光催化劑，以放電過程產(chǎn)生的大量活性物質(zhì)驅(qū)動光催化劑，就可以實現(xiàn)光降解和等離子體降解的協(xié)同。

等離子光催化廢氣處理選取優(yōu)質(zhì)合成石英管和貴金屬，確保了所有組塊的高質(zhì)量，并促進新的開發(fā)以滿足特殊的需要。組塊只有以佳的方式和電源設(shè)備匹配，才能確保整體系統(tǒng)的好性能。

等離子光催化廢氣凈化公司我們通過（貴金屬）摻雜、表面敏化、構(gòu)造復(fù)雜結(jié)構(gòu)催化劑等手段來有效的拓寬TiO2的光吸收譜的范圍及提高其可見光響應(yīng)效率。